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            臭氧在半導體工業中的應用

            在過去的幾年中,臭氧在半導體工業的應用越來越受到重視,特別是在晶圓清洗過程。

            在半導體行業,清潔度是一個絕對的要求。即使是很小的污染物痕跡也會導致晶圓表面區域結構的改變。自80年代末以來,在芯片生產中采用臭氧的清潔工藝已經被使用。隨著修改和新方法的開發,人們的興趣繼續增長。每個晶圓處理步驟都是潛在的污染源,每個步驟都有其特定類型的污染物。這意味著一個有效的清洗過程包括幾個清洗步驟,以去除晶體上的所有污染物。同時“絕對清潔”的行業要求擴展到設備(臭氧發生器,接觸到的設備),這意味著不會產生顆粒,沒有金屬,離子或有機污染物。

            半導體

            有效的芯片清洗過程的要求是去除所有會影響元件功能或可靠性的污染物??赡艿奈廴疚锟梢苑譃橐韵聨最悾?/strong>

            1.顆粒:主要來自周圍環境和人類(皮膚,頭發,衣服),但溶劑和移動的零件也可以作為顆粒源

            2.有機雜質:例如沒有完全去除光刻膠或溶劑

            3.原子污染:來自溶劑或機器的金屬元素膜

            晶圓清洗是目前半導體生產線上最重要、最嚴謹的工序之一,在很多的清洗工序中,只要有一道工序達不到要求,就會導致征辟的芯片的報廢和流程不順暢,傳統的RCA清洗法需要大量的化學試劑,帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題,而臭氧是一種具有極強氧化性的氣體,把它溶解在超純水中,噴灑在晶圓表面,可以將表面的有機污染物氧化為二氧化碳和水,非常容易就可以去除表面有機物,同時還會在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發生器非常適合運用在半導體特別是晶圓清洗上。

            德國安索羅斯ANSEROS是一家生產臭氧發生器的廠家,具有最高的臭氧輸出量,使用的材料可以完全不含金屬,意味著臭氧氣體和臭氧水是顆粒干凈的。COM-AD 臭氧發生器是用石英和PFA制造的,意味著清潔,在放電模塊的結構上也是如此。COM-VD 臭氧發生器是用鋁制模塊制成的。

            德國ANSEROS安索羅斯COM-AD系列臭氧發生器介紹

            德國ANSEROS安索羅斯臭氧發生器COM-AD系列是用石英和PFA材料制造的,采用電暈法,產生臭氧的效率高,且能精準控制臭氧濃度。

            臭氧發生器COM-AD系列

            臭氧發生器COM-AD系列產品特點:

            不含金屬 無密封 無顆粒排放 免維護 無磨損 質量保證

            廣泛運用在半導體加工,水殺菌,超純水處理,食品生產,研發,藥品生產,試驗裝置等方面。

            臭氧發生器COM-AD臭氧數據表

            德國ANSEROS安索羅斯COM-VD系列臭氧發生器介紹

            德國ANSEROS安索羅斯臭氧發生器COM-VD系列是專門為獲得高濃度臭氧而設計的。在低氧氣消耗量的氣相中,臭氧最高濃度可達到 300g O3/Nm3。

            臭氧發生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應器配合使用,其質量轉移效果非常好,可以將大量的臭氧轉換成液相,從而達到強力去除COD的目的。

            臭氧發生器COM-VD系列

            臭氧發生器COM-VD系列產品特點:

            最高臭氧濃度 低耗氧量 低功耗 相關反應性高 低AOPR(高級氧化工藝)能耗

            臭氧發生器COM-VD系列臭氧數據圖

            APCVD和CVD設備中使用臭氧發生器進行晶圓半導體加工工藝

            德國ANSEROS安索羅斯臭氧發生器可以結合在CVD(化學氣相沉積)機器中,CVD(化學氣相沉積)機器在腔體中使用臭氧發生器產生臭氧氣體,在腔體后使用臭氧破壞器(CAT-HO-8000)。

            對比其他的臭氧發生器品牌,德國ANSEROS安索羅斯有著明顯的優勢:

            (1)在半導體工藝中,德國ANSEROS安索羅斯臭氧發生器可以長時間正常運行,給晶圓清洗帶來長期的可靠性;

            (2)德國ANSEROS安索羅斯已經為美國,德國,意大利,英國等30個客戶提供服務,這些企業累計使用臭氧發生器有17年的運行時間,每天24小時。

            翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理,擁有近40年的行業經驗,能根據您的需求為您提供專業的解決方案,歡迎致電【400-6808-138】咨詢。

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